2021年，晶洲裝備迎來新的家園，站在新的高度，踏上了新的征程。新廠竣工伊始，晶洲接獲某大客戶大尺寸顯示基地示范工廠G8.5刻蝕設備訂單，歷時130余天，G8.5刻蝕設備較之標準生產周期提前50天超前完成生產，順利下線。
濕法刻蝕設備主要應用于平板顯示制程的陣列(Array)段，其原理是利用化學的方法對經過曝光與顯影后的基板表面金屬膜層進行均勻刻蝕，進而形成光刻定義的電路圖，是圖形化工藝的關鍵制程，一向由進口設備商壟斷，國內廠商少有涉及。
2020年，晶洲裝備G8.5大世代設備技術突破顯影、刻蝕、剝膜等一系列主工藝設備形成批量訂單，并陸續交付，全面覆蓋了ITO、IGZO、Ag、Mo、Al、Cu等各種膜材的刻蝕工藝。
來源： 晶洲裝備
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