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      AMOLED的色彩設(shè)計與畫質(zhì)提升解決方法剖析

      編輯:liuchang 2017-12-26 09:02:02 瀏覽:6181  來源:未知

      AMOLED發(fā)光原理

      發(fā)光器件設(shè)計原則

      AMOLED成像要素

      顯示面板的功能就是圖像顯示,所以談到面板的技術(shù)參數(shù),成像是繞不過去的一關(guān)。

      視覺世界里最重要的屬性是亮度和色彩。顯示器可以發(fā)出紅色、綠色、藍(lán)色三種波長的光,并控制這三種光的比例,屏幕上的所有顏色都由這三種光按照不同比例混合而成的。對于人眼來說,視錐細(xì)胞主要分布在視網(wǎng)膜上最敏感的黃斑上,人眼使用紅色、綠色、藍(lán)色三種視錐細(xì)胞來解析光線,不同顏色的光激發(fā)起的電流不同,大腦接收到電刺激后,將這些信息還原成顏色。

      AMOLED中的光學(xué)微腔

      有機電致發(fā)光F-P光學(xué)微腔,使發(fā)光材料在特定波長處實現(xiàn)輻射,實現(xiàn)強度的增大和譜線的壓窄。其中,發(fā)光光譜受x、L影響較大。

      HTL通常為光學(xué)調(diào)整層,EML材料的本征光譜固定時,可通過HTL厚度調(diào)整腔長,從而調(diào)整光色。不同發(fā)光材料對膜厚敏感性不同,為保證顏色的穩(wěn)定性,有機層膜厚的控制尤為重要。

      色彩設(shè)計與光學(xué)模擬軟件

      選定效率高、波長范圍合適、壽命較好的EML材料后,考慮到量產(chǎn)穩(wěn)定性,需做光學(xué)調(diào)整層的DOE,驗證光色隨腔長(L)的變化趨勢。此過程中,光學(xué)模擬軟件可起到輔助收斂的作用。

      舉例說明:

      應(yīng)用模擬軟件,分析發(fā)光材料的光色變化趨勢及大致window:

      其他器件參數(shù)固定,調(diào)整光學(xué)調(diào)整(共通)層,對RGB色標(biāo)影響如下。腔長越長,光色越向長波長方向偏移。其中光色對腔長的敏感度,是按GBR排序,G CIE的變化軌跡,在CIE1931色品圖拐角處,其變動幅度遠(yuǎn)大于B&R。

      #p#分頁標(biāo)題#e#*注:GBR膜厚變動范圍相同,為突出趨勢差異,膜厚變動值較大,已超出正常制程水平,僅供參考。

      色彩設(shè)計過程中,綠光的特殊性:

      根據(jù)視覺理論,楊氏三色學(xué)說,錐狀細(xì)胞對380-780納米內(nèi)不同波長的光具有不同敏感程度,明視覺(5nit以上),眼睛對550nm的黃綠色部分感受性最高,對紫光、相對不敏感。

      從模擬及實踐結(jié)果均可知,隨膜厚(腔長)的變化,綠光色標(biāo)在CIE1931中有較大變動,且人眼對綠色較為敏感,故在設(shè)計中需選用window較大的材料,生產(chǎn)過程中,需重點管控有機層膜厚均一性。

      由于CIE1931的色品圖不均勻性,根據(jù)麥克亞當(dāng)橢圓在1931的分布,對G光色的規(guī)格設(shè)定,可考慮色彩寬容度等概念,或采用1976等更均勻的色彩空間。

      色彩設(shè)計中的光譜

      下圖為某支綠光材料發(fā)光光譜。

      設(shè)計過程中首先需考慮發(fā)光材料的波峰與半波寬是否合適。

      選定材料體系后,需進行視角光譜驗證。因為不同視角下,光程出現(xiàn)變化,腔長L改變,所以跟正視相比,大視角下光譜有偏移。

      材料體系固定時,視角由0°→60°變化,偏移的規(guī)律性較強。

      所以在色彩設(shè)計過程中,除了CIE中值,及膜厚均一性的考慮外,還需注意視角光譜的波動與本征光譜的關(guān)系。

      AMOLED光學(xué)畫質(zhì)

      目前應(yīng)用AMOLED屏幕的電子產(chǎn)品越來越多,預(yù)定及銷售均出現(xiàn)了火爆情況。很多電子產(chǎn)品官網(wǎng)給出了兩周以上的發(fā)貨等待期。其中包含終端商的營銷策略,也體現(xiàn)了AMOLED供不應(yīng)求的局面。

      終端公司對顯示器的光學(xué)要求,已不僅僅是亮度、色域等基礎(chǔ)規(guī)格,而是OLED屏幕的整體畫質(zhì)。用戶對視覺效果的高要求,決定了提升畫質(zhì)的必要性。

      #p#分頁標(biāo)題#e#

      ​圖:應(yīng)用OLED屏幕的智能手機

      隨著應(yīng)用OLED屏幕的電視、智能手機、VR Phone等產(chǎn)品的層出不窮, OLED的缺陷也逐漸被用戶所察覺,從消費者的投訴頁面上可發(fā)現(xiàn),大部分用戶口中的“畫質(zhì)差”是色彩不均伴有區(qū)域性亮度不均的,即mura。

      AMOLED面板的mura,多為電性不均、面板內(nèi)外高低差等引起,多數(shù)出現(xiàn)于Array/OLED制程中。隨著更高分辨率,更大尺寸發(fā)展趨勢,即便持續(xù)提升制程均一性,mura問題仍然根深蒂固。亮度的不均,也令觀察者很容易注意到色彩不均,易有臟屏、花屏等感受,從而影響到畫質(zhì)。

      畫質(zhì)問題之------色彩不均

      跟AMOLED色彩相關(guān)的主要問題為混色、色彩均一性差等。

      混色:因與FMM、張網(wǎng)均有關(guān),且隨著分辨率越來越高,邊框越來越窄,對FMM的精細(xì)度有很高的要求,混色的良率很難控制。

      色彩均一性差:受限于蒸鍍機臺及管控程度,其良率受panel尺寸等影響。

      單色的色彩不均,是因為OLED蒸鍍制程不均一,導(dǎo)致發(fā)光器件的光學(xué)微腔被影響,從而影響到光色。白光的高灰階不均,有IR-drop之影響。低灰階的色彩不均,另有VGH/VgammaH設(shè)計問題等原因。

      以上色彩問題,均為OLED段難關(guān),很難在后端進行彌補。目前已可將yield loss降至較低水平。

      畫質(zhì)問題之------亮度不均

      以下是OLED TV連續(xù)運行一小時后,使用儀器分析的亮度分布圖:

      成因分析:與設(shè)計及制程均有關(guān)。IR drop、電路設(shè)計、成膜均一性等原因,區(qū)域性或整面屏均可見。低灰階時工藝上的偏差,將體現(xiàn)的尤為明顯。 且Vdata電壓、ELVDD、ELVSS、GIP驅(qū)動信號壓降造成高灰階向低灰階過渡,亮度均勻性亦會呈現(xiàn)固定的規(guī)律性。

      解決方式:改造電路、提升制程穩(wěn)定性,可在一定程度上改善。

      畫質(zhì)問題之------Mura

      AMOLED面板中,區(qū)域性的亮度、色彩不均,均可稱為mura。改造電路等方式可改善亮度均一性,但幾乎無法解決mura。Mura的隨機性、頑固性,是影響光學(xué)畫質(zhì)的最大殺手之一。

      國內(nèi)AMOLED面板已從無到有,技術(shù)難題攻克的同時 ,面板商間將進入拼良率的階段。在良率爬坡過程中,產(chǎn)生的mura形態(tài)累計有上百種。改善的同時,也在逐漸產(chǎn)生新型的mura。各家面板商機臺、制程均有差異性,所以mura的分類收斂也各有不同。#p#分頁標(biāo)題#e#

      常見的有牛頓環(huán)、條狀mura、帶狀mura、S mura、沙狀mura等等,后續(xù)隨著柔性屏批量,LTPS/IGZO、LLO過程中可能產(chǎn)生更多不可預(yù)測的mura形態(tài)。除明顯的paticle和固定位置的規(guī)律性mura外,根據(jù)mura形態(tài),很難分析成因,也很易造成漏檢。

      圖:mura示意

      AMOLED畫質(zhì)提升途徑

      終端商與消費者希望看到絢麗漂亮的屏幕,而高標(biāo)準(zhǔn)的畫質(zhì)直接拖動良率。

      在畫質(zhì)上,除了在OLED廠端做艱難的色彩提升,也可以在亮度均一性、mura補償?shù)姆绞饺ゾ狻?/p>

      畫質(zhì)提升方法

      目前已在探索多種補償方式,以提升屏幕光學(xué)畫質(zhì)。如內(nèi)部像素電路補償、外部電訊號補償,及外部光學(xué)式補償?shù)取?/p>

      在AMOLED的面板設(shè)計、Array 制程等多處可技術(shù)切入。其中電路設(shè)計的修改,時程較長,專利風(fēng)險較大;在制程中進行電訊號補償,可彌補電性不均,但在之后的制程中,可能出現(xiàn)其他的不均,疊加后,補償結(jié)果并未體現(xiàn)在FOG/Full MDL之上。

      而外部光學(xué)式補償,由于其不需更改電路設(shè)計,不需大改制程,且補償效果靈活可控,目前占有很大的優(yōu)勢。

      多家主流IC廠商已將含De-mura功能的 IC列入開發(fā)及驗證時程,如Raydium、Focal、Himax等。設(shè)備方面, IIX、cybernet等公司已積極投入資源,國內(nèi)亦有多家公司開始布局,著重進行相關(guān)技術(shù)的自主研發(fā),如先導(dǎo)智能等自動化設(shè)備龍頭企業(yè)。

      外部光學(xué)式補償相關(guān)廠商

         

      類別

      廠商

      支持領(lǐng)域

      Driver   IC

      Raydium

      含De-mura功能 IC

      Himax

         

      ……

      ……

       

      De-mura相關(guān)設(shè)備

      IIX

      檢測&De-mura設(shè)備、算法

      Cybernet

         

      先導(dǎo)智能

         

      ……

      ……

       

      表:外部光學(xué)式補償相關(guān)廠商

      畫質(zhì)提升效果預(yù)估

      依目前面板商對mura的大致分類,能利用De-mura技術(shù)消除的,大致為:ELA等固定方向性mura、黑斑、黑色帶狀mura等。以上mura也是目前影響良率較多的。

      很難用De-mura技術(shù)消除的,一般為顏色類的彩斑、混色、色彩不均等,補償亮度后會有輕微改善,但色彩的問題仍會被人眼察覺,色彩問題僅能改善,很難補償至人眼不可見。

      De-mura可針對面板廠、終端客戶的需求,實現(xiàn)多個灰階下的識別補償。實際效果可由AOI設(shè)備商、IC商、面板商的合作下,進行持續(xù)驗證。保守估計,可提升模組段10%左右的良率。

      后續(xù)待柔性產(chǎn)品量產(chǎn),由于3D Lamination、LLO等制程原因,在良率爬坡階段中,越后端,成本將越高。而后端的檢測、補償不僅能提升光學(xué)畫質(zhì),更能提升良率、大幅降低成本,有機會成為性價比最高的對策。

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