Color Filter(彩色濾光片)是組成面板中最重要的關(guān)鍵零組件，占面板制造總成本約四分之一，制造生產(chǎn)方式是在素玻璃基板上用紅、綠、藍(lán)色的光阻液原料,用黃光蝕刻方式或是其它技術(shù)(如顏料分散或轉(zhuǎn)印方法)形成與紅、綠、藍(lán)三原色的長(zhǎng)條形數(shù)組的基板。

　　當(dāng)背面的光源穿透每一個(gè)畫素(pixel)內(nèi)的紅、綠、藍(lán)濾光片與被電路驅(qū)動(dòng)呈現(xiàn)灰階的液晶后，會(huì)變成有不同比例的三種原色(RGB)之混合光。肉眼所看到的彩色影像就是光透過(guò)一個(gè)個(gè)有濾光片的液晶小格子變成之混合光組成的結(jié)果。

　　所謂的TFT面板制造，簡(jiǎn)單的說(shuō)，就是將一片彩色濾光片和一片有主動(dòng)矩陣(Active Matrix)的玻璃基板組合，兩邊貼上偏光板，再加上驅(qū)動(dòng)電路及框架的過(guò)程。

　　CF的種類

• 　　Dye (染色法)
• 　　Dry Film (色層貼付) – 35KCF
• 　　Pigment Dispersion (顏料分散法)

　　CF制程

　　1.分工概況

　　薄膜

• 　　BM/ITO sputter
• 　　BM photo lithography
• 　　BM etching

　　黃光

• 　　R/G/B photo lithography & cure
• 　　Protrution (DD) photo lithography & cure、
• 　　Photo-spacer (PS) photo-lithography & cure

　　檢測(cè)

• 　　Defect Inspection
• 　　Final Inspection
• 　　Repair

　　CF制程基本步驟

　　正光阻制程 : 光阻照到紫外光的部份會(huì)在后續(xù)顯影步驟中被移除。如 : BM, DD.

　　負(fù)光阻制程 :光阻沒照到紫外光的部份會(huì)在后續(xù)顯影步驟中被移除。如 : R, G, B, PS.

　　CF制作流程圖

　　BM制程

　　RGB制程(RGB process)

　　ITO制程

　　MVA制程

　　CF Process Flow

　　最終檢查

　　黑色矩陣制程

　　RGB制程(RGB process)

　　ITO制程(ITO Sputtering process

MVA制程(Multi-domain Vertical Alignment)

CF結(jié)構(gòu)

　　正視圖

　　剖面圖