10月16日，山東有研艾斯12英寸集成電路用大硅片產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目通線儀式在德州天衢新區(qū)舉行，該項(xiàng)目一期投資25億元，達(dá)產(chǎn)后可實(shí)現(xiàn)12英寸拋光片月產(chǎn)10萬(wàn)片，是中國(guó)有研布局的重點(diǎn)項(xiàng)目，也是山東省內(nèi)第一條12英寸集成電路用大硅片生產(chǎn)線。

　　12英寸硅片的面積是8英寸的2.25倍，可使用率是8英寸的2.5倍左右，單片可產(chǎn)出的芯片數(shù)量增加，經(jīng)濟(jì)效益明顯，隨著集成電路制程和工藝的發(fā)展，硅片趨向大尺寸化和制程精細(xì)化，12英寸硅片為當(dāng)前及未來(lái)較長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)的主流產(chǎn)品。

　　通線儀式前一日，記者走進(jìn)山東有研艾斯生產(chǎn)車間，整個(gè)操作車間一塵不染，生產(chǎn)硅片對(duì)潔凈環(huán)境要求非常高，在每個(gè)車間，工人們都穿著潔凈服進(jìn)行操作，在線切割車間，單晶硅經(jīng)過切割機(jī)操作被切割成厚度僅一毫米的硅片，而這僅僅是硅片切割的首個(gè)環(huán)節(jié)。

　　“硅片制作程序非常復(fù)雜，有線切割、倒角、研磨等40-50道工序，對(duì)平整度要求極高，硅片直徑300毫米，而頭發(fā)直徑只有100微米，但最終硅片出廠時(shí)最高與最低的平整度誤差不能超過0.1微米。”山東有研艾斯總經(jīng)理閆志瑞舉例介紹道。

　　清洗檢測(cè)是硅片出廠前的最后一道程序，透過操作車間玻璃可以看到，工作人員正操作專用儀器查看硅片表面顆粒數(shù)量及尺寸。“我們是山東唯一一家生產(chǎn)12英寸大硅片的企業(yè)，硅片直徑越大，對(duì)材料和技術(shù)的要求就越高，制造難度也越大，生產(chǎn)過程涉及亞微米甚至納米級(jí)別的結(jié)構(gòu)，工藝穩(wěn)定性、產(chǎn)品質(zhì)量參數(shù)一致性、單臺(tái)設(shè)備產(chǎn)能和產(chǎn)品單位成本持續(xù)降低控制等都是我們需要考慮的因素。”閆志瑞告訴記者。

　　據(jù)悉，12英寸硅片技術(shù)參數(shù)要求比8英寸更高，各工藝環(huán)節(jié)需要長(zhǎng)期積累，其中單晶工藝是最為核心的技術(shù)，其決定了硅片尺寸、電阻率、純度、氧含量、位錯(cuò)、晶體缺陷，山東有研艾斯攻克了單晶微缺陷、硅片幾何尺寸、硅片表面沾污等關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)，已在多家國(guó)內(nèi)外知名集成電路制造企業(yè)開展產(chǎn)品驗(yàn)證。

　　硅片是集成電路的基石，有研先后在德州投資近100億元在德州建設(shè)了7個(gè)項(xiàng)目，8英寸硅片、高純?yōu)R射靶材等4個(gè)項(xiàng)目已建成投產(chǎn)。8月18日，刻蝕設(shè)備用硅材料及硅片擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目開工建設(shè)。總投資62億元的12英寸大硅片項(xiàng)目，于去年4月開工建設(shè)。

　　“從8英寸到12英寸不僅僅是尺寸的變大。”閆志瑞坦言，目前12英寸是全世界直徑最大的主流產(chǎn)品，硅片的直徑越大，可利用的面積比例越高，每一個(gè)集成塊的成本就越低，追根到底是一個(gè)成本的降低，該項(xiàng)目同樣也是山東省唯一一家制作12英寸硅片的廠家，全部達(dá)產(chǎn)后將形成360萬(wàn)片/年大硅片的生產(chǎn)規(guī)模，徹底改變我國(guó)依賴進(jìn)口的局面。