4月7日，“昆山夢顯電子科技有限公司OLED微顯示器生產項目”在昆山市人民政府網站上進行了環境影響評價報批前公示。

公示文件指出，昆山夢顯電子科技有限公司成立于 2018 年 12 月，企業位于江蘇省昆山高新區晨豐路 188號 3 號房，屬昆山維信諾科技有限公司子公司。公司經營范圍：平板顯示器件的研發、生產、銷售；電子產品及其零配件、電子專用材料的銷售及組裝，并提供售后及相關咨詢服務；貨物或技術進出口業務。（依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動）。公司擬在昆山高新區晨豐路 188 號 3 號房投資 3.6億元整，進行 OLED 微顯示器生產項目，擬購置大蒸鍍設備、清洗機等設備。項目完成后，預計年產 OLED 微顯示器 60000 大片。

圖片來源：昆山市人民政府網

圖片來源：昆山市人民政府網
 

工藝流程說明：

圖片來源：昆山市人民政府網

工藝流程說明：

(1)清洗烘干

利用蒸鍍前清洗機清洗掉背板上沾染的少量灰塵顆粒物，清洗過程中不添加酸、堿等清洗劑、添加劑等化學試劑，清洗流量為30L/min，年清洗時間為2400h/a，清洗用純水定期更換，此過程會產生清洗水；

(2)蒸鍍

小分子有機薄膜采用真空蒸鍍法沉積成膜。其具體操作是在真空中加熱蒸發容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到Wafer的表面，凝結形成固態薄膜，加熱方式為電阻絲加熱，根據不同材料溫度設置在100-400℃之間。本項目蒸鍍工藝中，各種有機材料HIL、NPB、HD及紅、藍、綠發光有機材料大部分通過加熱蒸鍍到器件上，成為器件（產品）的組成部分；微量蒸鍍到真空腔室的內璧，通過無塵布用無水乙醇擦拭，蒸鍍設備真空泵需定期更換真空泵油，此過程會產生擦拭廢布、真空泵油、噪聲；

(3)ALD沉積、CVD沉積

原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法；化學氣相沉積(CVD)是指將兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內，然后他們相互之間發生化學反應，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上的方法，該過程原子層沉積設備、化學氣相沉積設備，在450℃的高溫下，通過流量控制器精準控制加入三甲基鋁、四氯化鈦、SiH4、NH3、N2、O2、N2O、NF3等氣體，在電場作用下進行等離子體放電發生化學反應并進行薄膜的沉積，本項目根據不同工藝要求需進行加熱，ALD沉積采用電阻絲加熱，溫度為90℃，CVD沉積采用溫水間接加熱，溫度為80℃。

ALD沉積原理為：三甲基鋁經過氧化形成三氧化二鋁薄膜層，副產物為二氧化碳和氫氣，未反應的三甲基鋁為有毒氣體，連同氣態副產物最終以有毒廢氣的形式通過POU設施處理，再經過布袋除塵設施和噴淋塔處理后外排，三甲基鋁為易燃氣體，基本完全燃燒；

CVD沉積原理為：通過反應氣體NH3、SiH4、NF3（攜帶氣體N2、H2、Ar）的化學反應，在基片上沉積氧化硅，氮化硅作為絕緣層、鈍化層薄膜。在CVD工序的反應器中，反應氣體與攜帶氣體不斷流過反應室，大部分反應氣體經過反應消耗并生產氣態副產物，未反應的氣體由于混入大量廢氣，成分復雜，難以回收利用，通過排氣管道排到特殊的氣體處理設備(scrubber)以天然氣為燃燒源進行燃燒處理，尾氣再通過布袋除塵設施和噴淋洗滌塔處理。主要反應式如下：

(4)點膠、貼合、固化

把鍍膜后的基片（膜層向內）和無導電層的基片用封裝膠進行點膠，之后用紫外線（固化），在此過程中UV膠全部進入產品，此過程會產生噪聲，廢包裝桶；

(5)切割打線

將制得的顯示器件按需要切割成為顯示屏成品。在電子模塊工作間，將外購的電路板和芯片等焊接，并與顯示屏相連，制得最終的顯示器成品，此過程會產生噪聲、廢玻璃；

(​6)測試、模組

顯示器經過測試模組后即為成品，測試過程中會產生不合格品，經過重復修復后即可，此工序會產生噪聲。

在生產過程中，治具上會沾染到油污、灰塵等雜質，需利用Mask清洗機及SMIF清洗機進行浸泡清洗，清洗用到N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP）、異丙醇、丙酮、乙醇等有機溶劑，此過程會產生廢有機溶劑和有機廢氣。