一直以來，大尺寸OLED因成本過高，使應用普及受到很大的影響。作為大尺寸OLED制備路線之一，噴墨印刷工藝已經成為各大科研院校與機構、行業企業重點研究的方向。在本屆大會上，華南理工大學教授、材料工程學院院長彭俊彪教授以“印刷顯示技術的機遇與挑戰”為主題，分享了印刷顯示工藝技術的研究與應用情況。

從顯示技術發展歷程來看，彭俊彪教授認為，當前顯示技術的更迭時間越來越短、變化越來越快，除了顯示屏尺寸越來越大之外，超高分辨率成為業內重點發展方向。他表示，雖然OLED真空蒸鍍工藝已經很成熟，但大尺寸OLED真空技術制備的風險和技術難度非常大，比較認可的工藝技術則是印刷顯示。然而，盡管日本JOLED已經在印刷顯示方面取得了很大的突破，但仍面臨諸多的問題，比如分辨率。

顯示屏硬件的基本結構分為功能層和TFT驅動兩部分，其中TFT是核心關鍵技術。彭俊彪教授介紹，目前TFT仍以硅基為主，即非晶硅和低溫多晶硅，但在大尺寸顯示領域，非晶硅與低溫多晶硅都不是理想的TFT材料，氧化物TFT成為一種選項。他指出，氧化物TFT可行性已經得到驗證，如LG利用a-IGZO作為TFT背板，最大生產出77英寸的OLED顯示屏；夏普采用CAAC-IGZO技術在手機與電腦等中小尺寸領域得到應用。

盡管氧化物TFT具有很大的應用潛力，但是彭俊彪教授認為OLED驅動需要的氧化物材料，對電子遷移率要求比較高，在技術應用上還有一定的瓶頸。為了解決這一技術瓶頸，彭俊彪教授團隊研究了很多類的氧化物半導體材料，其中通過稀土元素微量摻雜IZO，可大范圍調控Ln-IZO材料及TFT的特性，具有很高的遷移率、高光電穩定性。

目前彭俊彪教授重點研究的是印刷OLED工藝，其主要通過噴墨打印，采用這種方式制備像素薄膜，進行襯底處理。他介紹，印刷顯示主要有五個步驟：噴出、液滴形狀、液滴飛行、鋪展、干燥，對材料要求非常高。以藍光材料為例，藍光材料需分子量可控，可溶性好，流變性也要有所控制。從墨水的配置上看，整個墨水體系要控制流變性，其中包括控制兩個參數：一是沸點；二是溶劑。例如，二氯苯的穩定性好，通過調整濃度可以得到厚度很好的膜，可直接在基板打印。

彭俊彪教授介紹，薄膜可以做成點型像素薄膜，也可以做成線型薄膜，通過控制薄膜的寬度，就控制了分辨率。通過在襯底加上電子、電極就可以構造出像素點或者像素線的薄膜結構。目前彭俊彪教授團隊已經可以通過噴墨技術把線寬做到2微米，實現800ppi的高分辨率。因此，通過印刷工藝實現高分辨率的OLED顯示屏將是一個可行的探索方向。

彭俊彪教授也介紹，他們正研發全印刷工藝，包括印刷陰極、量子點材料、TFT等，雖然面臨諸多的技術挑戰，比如應用效率、高穩定性等方面，但全印刷的方式是可行的。他認為，印刷工藝將是未來顯示技術之一，但材料體系和墨水是重中之重的問題。同時，他也希望，通過不斷努力，利用全印刷工藝，能夠看到印刷OLED應用的曙光。