佳能的半導(dǎo)體設(shè)備，包括家喻戶曉的OLED蒸鍍?cè)O(shè)備外，還有半導(dǎo)體濺射、光刻機(jī)等等核心設(shè)備。其中，Canon Tokki幾乎壟斷了OLED蒸鍍?cè)O(shè)備，其光刻機(jī)的市占率約為5%左右，濺射設(shè)備市占率很小。

　　一. Canon Tokki有機(jī)EL Display制造設(shè)備 - OLED蒸鍍?cè)O(shè)備

　　1. 公司介紹

　　佳能特機(jī)株式會(huì)社成立于1967年，主要經(jīng)營(yíng)真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備的開發(fā)、設(shè)計(jì)、制造和銷售。其在中國(guó)大陸、中國(guó)臺(tái)灣和韓國(guó)均設(shè)有銷售支援和售后服務(wù)。

　　2. 有機(jī)EL制造設(shè)備

　　OLED工藝流程分兩種：

　　1）玻璃；

　　2）柔性，柔性多了Varnish形成步驟。

　　首先，在基板上形成Varnish和TFT薄膜，然后形成有機(jī)和金屬層薄膜，最后進(jìn)行封裝。封裝之后進(jìn)行Varnish層的剝離。從前處理到金屬膜形成是佳能特機(jī)蒸鍍工藝部分，除蒸鍍外還包括印刷部分，但還未實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

Cluster型有機(jī)EL量產(chǎn)設(shè)備：

　　主要應(yīng)用于生產(chǎn)手機(jī)的面板；

　　設(shè)備中間有機(jī)械手，周圍有各種處理室，機(jī)械手搬運(yùn)機(jī)板到處理室，按照指定的順序進(jìn)行蒸鍍；

　　對(duì)應(yīng)基板尺寸：G2~G6H;

　　生產(chǎn)節(jié)拍：<120sec。

　　Inline型有機(jī)EL量產(chǎn)設(shè)備:

　　主要應(yīng)用于生產(chǎn)電視面板；

　　特點(diǎn)：移動(dòng)性成膜；

　　對(duì)應(yīng)基板尺寸：G2~G8H;

　　生產(chǎn)節(jié)拍：<120sec.

　　3. 設(shè)備的Line up

　　4. 核心技術(shù)

　　最大的優(yōu)勢(shì)為RGB Mask對(duì)位，其在真空狀態(tài)下進(jìn)行對(duì)位。

　　二. 高品質(zhì)大型面板曝光設(shè)備 - FPD設(shè)備

　　1. Display發(fā)展趨勢(shì)：

　　1）以智能機(jī)為代表的高精化；

　　2）TV面板的大型化。

　　2. 為了應(yīng)對(duì)智能機(jī)和TV面板的快速發(fā)展，佳能推出了強(qiáng)有力的解決方案 - FPD用MPA系列的曝光機(jī)。

　　MPA搭載了獨(dú)立的鏡面系統(tǒng)，可兼顧解像力、Overlay和生產(chǎn)性三大指標(biāo)。

　　3. 性能特性。

　　1）在G8之前的設(shè)備（H803）最多只能曝光55“的面板，在進(jìn)行65”曝光時(shí)不得不應(yīng)用拼接式曝光。由于現(xiàn)在曝光面積拓展，所以還能兼顧2.0um的解像力。目前，只有佳能一家能做！！

　　2）Overlay精度提高。

　　之前設(shè)備只能進(jìn)行線性補(bǔ)正，現(xiàn)在搭載了新倍率補(bǔ)正機(jī)構(gòu)后，可應(yīng)對(duì)各式各樣的非線性補(bǔ)正。精度提高10%。

　　3）大型Panel MMG對(duì)應(yīng)。

　　采用MPA Dual Line構(gòu)成，在兩臺(tái)機(jī)器上分別曝光三個(gè)65“和兩個(gè)55”面板，減少換MASK時(shí)間來(lái)提高產(chǎn)能。

　　三. Canon半導(dǎo)體曝光設(shè)備 - 半導(dǎo)體設(shè)備

　　1. 半導(dǎo)體設(shè)備的銷售市場(chǎng)在快速增長(zhǎng)，其中以AI、自動(dòng)駕駛系統(tǒng)和5G通訊為發(fā)展基礎(chǔ)。

　　2. 佳能的半導(dǎo)體設(shè)備主要分為三大類：i-Line, KrF和NIL。其中，i-Line 系列覆蓋最廣。

　　四. Canon Anelva濺鍍?cè)O(shè)備&真空部件 - 半導(dǎo)體設(shè)備

　　佳能安內(nèi)化以真空技術(shù)為基礎(chǔ)開發(fā)的半導(dǎo)體設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體的前道鍍膜和后道封裝工藝等。

　　1. 設(shè)備

　　1）FC7100

　　采用特殊斜角建設(shè)，解決了平板建設(shè)技術(shù)不能解決的超薄膜工藝及對(duì)基板表面的損傷課題。

　　可同時(shí)搭載兩種不同材料的靶材。

　　廣泛應(yīng)用于CMOS、ReRAM和Metal Gate的工藝中.

　　2) IC1060I1060是200mm時(shí)代的主要機(jī)型，為應(yīng)對(duì)半導(dǎo)體時(shí)代對(duì)200mm一下的需求，再次推出IC1060設(shè)備。該設(shè)備可應(yīng)對(duì)多種產(chǎn)品的前道鍍膜和后道封裝工藝。

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　　3）EL35系列 此系列是佳能安內(nèi)化首次向中國(guó)客戶推出的液晶面板生產(chǎn)中所需的MASK和MASK Blanks的設(shè)備。此系列可為中國(guó)面板廠商提供關(guān)鍵的建設(shè)技術(shù)，可對(duì)應(yīng)最大的10.5面板。

4）NC7900,NC8000

　　MRAM以磁場(chǎng)的方向來(lái)記憶信息，維持記憶不需要持續(xù)的電力支持，因此MRAM是解決手機(jī)等便攜式設(shè)備所必須的新型Memory。所以，佳能安內(nèi)化率先開發(fā)和推出了MRAM中MTJ構(gòu)造的成膜和刻蝕設(shè)備。

　　以下是MTJ的一般構(gòu)造，特點(diǎn)是由多種材料的超薄膜組成。各種材料薄厚的稍微變化會(huì)影響成品的最終性能。各生產(chǎn)廠家仍在摸索最佳生產(chǎn)工藝。佳能安內(nèi)化已有20多年開發(fā)經(jīng)營(yíng)，其開發(fā)的NC7900擁有對(duì)各種材料所必須的納米級(jí)薄厚控制技術(shù)。NC8000采用RIE和IBE方式，可避免刻蝕工藝對(duì)側(cè)壁的損傷。